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氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問題

簡要描述:氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問題
TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù),對脫硝過程中的逃逸氨進行連續(xù)在線監(jiān)測,系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成,主要應用于眾多工業(yè)領域氣體排放監(jiān)測和過程控制,例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

  • 產(chǎn)品型號:TK-1100
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-10-13
  • 訪  問  量:717

詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域環(huán)保,化工,石油,建材,冶金

氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問題

 

一、產(chǎn)品概述(煙氣氨逃逸在線監(jiān)測分析儀系統(tǒng)(高溫抽取激光))

    脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)(TK-1100型)是由我公司榮譽出品,本系統(tǒng)包括預處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù);紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對連續(xù)光譜做算法分析,可同時測量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領域。

    本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)(TK-1100型)耐用且易于安裝,特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測,包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

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二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領域,例如燃煤發(fā)電廠,都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置,后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),但是無論應用哪種方法,基本原理都是一樣的,即都是通過往反應器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應,產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式,也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式,無論何種形式,控制好氨的注入總量和氨在反應區(qū)的空間分布便可以的降低NOX 排放。

    氨注入的過少,就會降低還原轉(zhuǎn)化效率,氨注入的過量,不但不能減少NOX 排放,反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區(qū),逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應生成硫酸銨鹽,且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀,例如沉淀在空氣預熱器扇面上,會造成嚴重的設備腐蝕,并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象,高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。

 2.2氨逃逸的危害

(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費,環(huán)境污染;

(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;

(3)逃逸的氨氣,會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕;

(4)過量的逃逸氨會被飛灰吸收,導致加氣塊(灰磚)無法銷售;

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

 指標

測量范圍

0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設定

響應時間

<20s

線性誤差

<1%F.S

零點漂移

可忽略

重復性

1%F.S

標定

出廠時已標定,無需定期標定

輸入和輸出信號

模擬量輸出

4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離

報警輸出

濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報警

繼電器輸出

2路(可擴展),觸點負載24V,2A

通訊接口

RS485,雙端隔離

工作條件

環(huán)境溫度

(-20)~50℃

保護等級

IP54

工作電壓

200V-240VAC,50Hz

電源功耗

≤3000W

預熱時間

1小時

伴熱溫度

180℃~240℃

 

采樣流量

2~20L/min(可根據(jù)用戶需求定制)

尺寸

機柜

1000×1200×600mm(默認尺寸)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介

    本系統(tǒng)的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成,具體流路示意圖如下:

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    系統(tǒng)進入測量狀態(tài)后,電動執(zhí)行機構(gòu)帶動兩通球閥切換到采樣氣路,在引流泵的作用下,被測氣體經(jīng)由探頭桿、,兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊,NH3模塊利用吸收技術(shù)(TDLAS)對氣體進行分析,得到NH3的濃度(高溫熱濕法),后排空。

    系統(tǒng)定時會進入校準狀態(tài)進行自動調(diào)零,此時兩通球閥切換到校準氣路,校準電磁閥打開,在引流泵的作用下,環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準電磁閥后進入氣體室,對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃,吹掃干凈后,對NH3進行一次調(diào)零;系統(tǒng)定時會進入反吹狀態(tài)對采樣探頭進行反吹,此時兩通球閥切換到反吹氣路,反吹電磁閥打開,系統(tǒng)自動控制反吹電磁閥開或關(guān),實現(xiàn)對探頭過濾器的反吹。

氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問題

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