技術(shù)文章
氨逃逸率,一般來說,為SCR脫硝工藝出口,未參與還原反應(yīng)的NH3與出口煙氣總量的體積占比,一般計(jì)量單位為ppm,如果用質(zhì)量占比,為mg/m3,也叫氨逃逸濃度。在SCR脫硝工藝過程中,脫硝氨逃逸的量高一般是什么原因引起的:
一、脫硝煙氣流場不均勻,造成局部噴氨量過大引起逃逸率偏高;
二、催化劑中毒后,催化劑反應(yīng)性能下降,使得脫硝過程中噴氨過量;
三、機(jī)組在網(wǎng)長時(shí)間低負(fù)荷運(yùn)行SCR系統(tǒng)入口溫度偏低,導(dǎo)致反應(yīng)轉(zhuǎn)化比例偏低,存在氨消耗量偏大。
另一方面也由于低負(fù)荷時(shí)風(fēng)量偏低,流場不均也進(jìn)一步擴(kuò)大了硫酸氫氨的沉積區(qū)域;
氨逃逸量太高是什么原因?qū)е碌?/p>
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